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高性能靶材

靶材是指通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。通過向基靶內(nèi)添加稀土元素來改良靶材性能的靶材稱之為高性能靶材。
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